真空電鍍用鎢加熱子的重要工序——上架落架
- 分類：鎢的知識
- 發佈於：2016年7月21日
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真空電鍍用鎢加熱子上架操作要點：
1.上架前先檢查底油上油品質，不合格的需用#617天那水清洗再重新上油；2.夾持要穩固,保證啤件在真空室內旋轉時不會掉落甩出； 3.啤件的裝掛位在電鍍後會留痕跡，另外夾持力過大啤件可能變形，故可保留水口/澆道作為裝掛位，在電鍍後再其除去；4.上架過程中不得觸摸啤件要電鍍的有效位置，以免留下指印污痕影響電鍍效果； 5.籠架保持清潔,要定期洗擦。
落架操作要點：
1.小心取下，不要刮花； 2.擺放整齊，隔層用乾淨紙墊好； 3.膠盆要蓋好，防灰塵。
上面油 & 烘乾固化
面油作用：在鍍膜上加一層塗料保護(透明)膜以消除針孔使鍍層加固，提高鍍層的耐磨性和接觸性,另外一個作用是使染色工序成為可能。
操作注意：上面油要特別注意上油均勻到位且不聚油，一般需用海綿類物滲吸去表面多餘面油。
染色 & 烘乾
染金色---使鍍膜外觀呈珼鍍金色的效果。烘乾/固化條件：溫度60-65℃，時間30min。 1. 配染色液：一般用300份水配1份色粉。 2.保持染色液70℃恒溫，通入氣流攪動令染色液均勻無沉澱； 3. 染色時間：3 ~ 12s，之後用清水清洗兩次； 4. 出現色差時，從溫度、時間及染色比例來調整； 5. 染色件外觀要求：色對簽辦且色澤均一，無起點，不脫模光澤好，無刮花。烘乾：溫度70℃， 時間30 ~ 40min。
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WO3提升Pt系催化劑的性能
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不同WO3摻雜量對甲醇氧化的影響
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WO3+xPt-H→HxWO3+xPt
HxWO3→xH++xe-+WO3
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抑制劑對硬質合金球齒性能的影響
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理論上說，燒結體的晶粒度越小，材料的硬度也越高；而材料的斷裂強度會隨著硬度的增大而增大。為了提高硬質合金球齒WC-Co的硬度和強度，在燒結過程中必須通過優化燒結工藝以及添加適當的晶粒生長抑制劑來抑制晶粒的長大。硬質合金粉末燒結過程中常用的抑制劑有TaC、MoC、Cr3C2、VC、NbC等，其可以作為單一添加劑也可按一定比例組成複合型抑制劑。此外，還有研究人員將難熔金屬碳化物加入到富Co基體中，並將所形成的固溶體作為抑制劑。其能顯著降低基體熔點，在液相Co中形成穩定的金屬/非金屬原子團，而該原子團的存在會阻礙W、C原子從一個晶粒向另一個相鄰晶粒的液相遷移，從而進一步降低WC晶粒的長大速率。
稀土元素也可作為晶粒長大抑制劑，其也能在燒結過程中抑制晶粒長大並提高硬質合金球齒的各項性能。與常用的抑制劑一樣，稀土元素也有許多，如Y、La、Nd、Pr、Ce，其添加形式也可以是稀土金屬、氧化物以及混合稀土。稀土元素的主要作用在於：1.性質較為活潑，對O、S、N、C等元素親和力較強，因而硬質合金球齒中的這些雜質元素形成稀土化合物質點並分佈在晶界上。這也就有效地阻止了液態Co中的擴散溶解和WC相之間的晶界遷移，抑制了WC晶粒的不均勻長大；2.淨化晶界以及去除雜質，稀土元素與雜質元素結合形成球形化合物，對粘結相起到彌散強化作用。在以上兩種機制下，對硬質合金球齒的硬度、抗彎強度有顯著的強化作用。與此同時，稀土元素還能有效降低硬質合金球齒的燒結溫度，較好解決了控制晶粒長大和燒結緻密化之間的矛盾。
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真空電鍍用鎢加熱子的重要工序——上底油和烘乾固化
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化學鍍膜最早用於在光學元件表面製備保護膜。隨後，1817年，Fraunhofe在德國用濃硫酸或硝酸侵蝕玻璃，偶然第一次獲得減反射膜，1835年以前有人用化學濕選法澱積了銀鏡膜，它們是最先在世界上製備的光學薄膜。後來，人們在化學溶液和蒸汽中鍍制各種光學薄膜。50年代，除大塊窗玻璃增透膜的一些應用外，化學溶液鍍膜法逐步被真空鍍膜取代。 真空蒸發和濺射這兩種真空物理鍍膜工藝，是迄今工業能夠製備光學薄膜的兩種最主要的工藝。1935年，有人研製出真空蒸發澱積的單層減反射膜。但它的最先應用是1945年以後鍍制在眼鏡片上。真空電鍍用鎢加熱子在蒸發鍍膜的過程中需要注意以下幾點。
1.在發熱鎢絲上纏上鋁片。如上次電鍍中熔鋁呈球狀包覆於鎢絲上則不可再用，需拆出換過鎢絲。
2.將上好籠架的啤件（通過小車）推入真空室內，保持電極緊密接觸，嵌入離合器定位牢固應能旋轉。
3.順序用機械泵，羅茨泵及擴散泵抽氣，當真空度指針達到5×10-4TORR時可開始蒸鍍操作。
4.蒸鍍過程：鎢絲升溫到650℃，鋁熔融在鎢絲上，繼續升高到近1000℃，熔化鋁被蒸發逸出鋁原子以直線運動凝結在它相碰的表面上，真空室內被鍍製品不斷在旋轉 （跟籠架）使被鍍表面鍍上均勻膜層。
5.平均鍍膜生產週期約30分鐘左右。
6.設備的詳細操作使用參見附頁數據。
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