硫化法製備二硫化鎢薄膜是利用硫粉或硫化氫氣體硫化氧化鎢（WO₃）薄膜的過程。隨著該方法被更多人使用研究，採用該方法制得的二硫化鎢薄膜性能也能期待收穫新的發現。

射頻濺射法是一種常見且簡單可行的二硫化鎢薄膜製備方法。該方法在惰性氣體中對二硫化鎢靶材不斷射頻激勵放電，從而成功製備二硫化鎢薄膜。

反應磁控濺射法適用高熔點二硫化鎢薄膜的製備，是一種較為常見的二硫化鎢薄膜製備方法。該方法要求純鎢靶濺射出原子，同硫化氫（H₂S）氣體裂解出的硫離子發生反應沉積，從而成功制得薄膜。

高溫自加壓製備納米二硫化鎢是將WO₃溶膠、分散劑DMSO和昇華硫裝入自行設計反應釜中，在900℃進行高溫自加壓反應的一個過程。通過控制製備時的溫度，該方法可以製備出不同形貌的納米二硫化鎢。