中子钨合金辐射屏蔽件应用
- 分类:钨业知识
- 发布于 2015年6月19日
- 点击数:1597
中子是构成物质原子核的基本粒子之一,它的质量与质子相同。中子辐射通常是用人工的方法从原子核中释放出来的。中子辐射由自由中子所组成,可由自发或感应产生的核裂变,核聚变或其他核反应产生。中子非电离辐射不会电离原子,但可与不同元素之原子核撞击,进行"中子激发",产生不稳定同位素,使物质具放射性。中子进入原子核内引起核子反应,会释放大量的高能中子,高能中子具有杀伤力。
对中子的屏蔽,最好是用钨合金材料,钨合金是高密度金属材料,密度越高对中子的屏蔽效果越好,因此10cm厚度的钨合金材料对中子的屏蔽可达93%,足见其效果显著,是中子屏蔽材料的最佳选择。中子钨合金辐射屏蔽件作为中子辐射的屏蔽材料可在选择性肿瘤放射治疗,核工业,空间和航空航天工业,以及高可靠性爆炸物工业中应用。

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钨合金潜艇配重
- 分类:钨业知识
- 发布于 2015年6月18日
- 点击数:1554

抑制钨管表面横向裂纹的产生方法(2)
- 分类:钨业知识
- 发布于 2015年6月18日
- 点击数:1651
沉积基体去除过程的控制。
若是采用真空熔化的方法来去除沉积基体,升温速度要缓慢,尤其是超过沉积温度至铜的熔点段。该方法是较优的选择方案,因为,采用该方法可以使得去除沉积基体与钨管去应力退火处理同时进行。一方面,可以抑制钨管表面横向裂纹的产生;另一方面,沉积基体材料可以直接回收。
若是采用硝酸溶液,则硝酸的溶液浓度应该小于35%。因为沉积基体的腐蚀速度若是过快的话,钨管的应力释放速度也会过快,而且还会使得沉积基体的腐蚀不均匀,导致钨管在沉积基体去除过程产生裂纹。
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仲钨酸铵简介
- 分类:钨业知识
- 发布于 2015年6月18日
- 点击数:2155
仲钨酸铵是含有钨和氨的洁白色晶体,稍溶于水,不溶于醇,化学分子式为(NH4)10(H2W12O42)·4H2O。仲钨酸铵的生产是通过从钨矿中分离钨。仲钨酸铵制备完成后,将其至于600摄氏度的环境中加热分解,失去氨和结晶水,转变为三氧化钨。氧化物与氢气一起加热,水蒸气消失。钨粉可以被熔铸成很多产品,从钨丝到钨条或其他形状。
以钨酸铵溶液为原料,用溶剂萃取制得偏钨酸铵溶液,再经结晶蒸发制得仲钨酸铵。在五十摄氏度以下时,形成六水合物;温度达到五十度以上时,形成五水合物或七水合物。前者呈片状,后者则呈针状。
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抑制钨管表面横向裂纹的产生方法(1)
- 分类:钨业知识
- 发布于 2015年6月18日
- 点击数:1672
抑制钨管表面横向裂纹的产生方法:
退火处理的升温速度不宜过快,要缓慢进行,尤其是在钨的塑脆转变温度以下的温度段,使沉积钨管的内应力能够缓慢的释放,以降低钨管表面横向裂纹产生的可能性。
沉积终了后的冷却速度要放慢,特别是在钨塑脆转变温度之上阶段的冷却速度。这一点很重要,尤其是对于壁厚、尺寸大、形状复杂、易产生应力集中的制品沉积制备。
基体厚度要均匀并尽可能薄,以减小冷却过程变形应力。当然,这要在满足沉积基体强度及加工要求前提下采用。
选择与基体膨胀系数接近的基体材料,可以显著降低沉积制品内残余应力。
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