2H相單層二硫化鎢納米片製備

二硫化鎢與二硫化鉬結構相同,都是典型三明治層狀結構,由於其層間相對較弱的范德華力,也可以剝離成單層或少層數的納米片,被認為是另外一種相當重要的二維納米片材料,具有獨特的物理、化學和電學特性。

二硫化鎢圖片

有關於二硫化鎢的研究越來越多,一般認為,二硫化鎢存在三種相態, 即1T、2H和3R相,其中,1T相是WS2以一個S-W-S單分子層作為最小重複單元堆疊,而2H和3R 相是以兩個和三個S-W-S單分子層作為最小重複單元堆疊。自然界中大部分WS2是以2H穩定相存在的,1T和3R相屬於亞穩態結構,在一定條件下可以轉變為2H相。由於單層2H相的WS2已經失去了雙分子層為最小重複單元的特性,因此也被稱為1H相。在應用中,2H相單層二硫化鎢納米片展現出良好的半導體特性,被應於研究超級電容器、電晶體等半導體設備。2H相單層二硫化鎢納米片的製備方法包括以下步驟:

分別稱取0.004mol的醋酸鋰和0.002mol的硫代鎢酸銨,在瑪瑙研缽中混合研磨1h,將研磨後的混合物置於剛玉坩堝中,放置在管式爐中,通氬氣保護,程式升溫至200℃,保溫10h,然後繼續通氬氣自然降溫至室溫,得到插鋰的2H相硫化鎢(Li2WS4)塊體;將插鋰的硫化鎢塊體置於盛有50mL去離子水的容器中,超聲分散10min,分散後的懸浮液在轉速為 1000r/min的離心機上離心分離沉澱;將去除沉澱後的懸浮液在轉速為10000r/min的用離心機上分別用水和乙醇離心洗滌3次去除Li2S等可溶性雜質,將洗滌後的沉澱物超聲分散在100mL無水乙醇中,其中2H相單層WS2的濃度約為0.8mg/mL,經原子力顯微鏡檢測其厚度為0.80nm,X-光電子能譜顯示為2H相。

通過上述方案所得到的2H相單層二硫化鎢納米片的厚度小於1nm,可用於超級電容器、液晶顯示幕、光催化劑等半導體新材料的研究。

 

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