マグネトロンスパッタ法とゾル・ゲル法は調製の三酸化タングステンに比べて、それらの光の透過率の差異は大きくない。しかし、マグネトロンスパッタスペクトルの山穀は更に明らかで、すなわちマグネトロンスパッタ法で制備のフィルムは異なる波長光の吸収の違いがゾルゲル法で調製の三酸化タングステンフィルムより大きい。

ゾルゲル法は焼鈍の前後で異なる温度の下の透過スペクトルを分析する。ゾルゲル法で調製したの三酸化タングステンフィルムに対して、アニーリングの温度が高いほど、フィルムの光の透過率が低いほど。300℃下でアニーリング30min後、フィルムの光透過率は平均10％を下落し、山穀の波長の位置に紫外線バンド移動するの現象がありが、明らかではありません。380℃で焼鈍後フィルムの光の透過率は20％～25％を低下し、偏赤外部分の光の透過率低下で特に著しい。山数は変わらない、山穀の光透過率んの差がより小さい。400℃下焼鈍後で、フィルムの光透過率は25％～30％に下落し、偏赤外部分の光の透過率の下では特に著しい。

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WGZ-8複光束紫外の可視分光光度計を運用してフィルムの光の透過性の分析を行って、入射光の波長の範囲は200～800nmで、光の透過率は0 %～150 %である。ゾルゲル法を運用して、調製したの三酸化タングステンフィルムの透過スペクトルは最大な透光率と相応の波長は85.3%、556nmである。山と穀は350～600nm波長の範囲内である。そして、山穀の所の光透過率の差は4.4％で、300nmの波長の範囲内で透光率ほぼゼロである。しかも、マグネトロンスパッタ法で三酸化タングステンの透過スペクトルを調製するのは最大な透光率と相応の波長範囲は90.1%、572～582nm、山穀が350～650ｎｍの波長である。山穀に光の透過率の差は約21.2 %である。2本の線に比べて、2つの方法で調製しうた三酸化タングステンフィルムの光の透過率の違いは大きくないことを見抜くことができる。

マグネトロンスパッタ法で調製のフィルムの温度が450℃の時に、フィルムの光透過率は平均約8～10％を下落し、プロファイルとピークはほとんど変化していない。アニールの温度が500℃の時に、フィルムの光透過率は平均約8％を下落し、ピークとプロファイルはあまり変わらない。

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磁気空のスパッタリング法を通して三酸化タングステンナノフィルムを調製する。その平均の粒度径は100nmより小さい。三酸化タングステンナノフィルムの大きさと磁気射条件と処理温度に関する。研究者の実験を経て発見して、スパッタリングは三酸化タングステンナノフィルム時、スパッタガス量と割合はガス敏特性をを高めるが大切な影響を持つ。

XPSの分析を通じて分かて、スパッタ混合ガス（O2/Ar）の割合が違うけど、W4f/2とOlsの結合は変化なく、それが35.5eVと530.6eVである。そして、WO3ナノフィルムは化学計量の変化を起きていない。しかし、O2の分圧の違うによって、WO3ナノフィルムのマイクロ構造が大きく変化がある。この現象は団欒の減少で解釈することができる。つまりO2の分圧が増えた時、結晶の粒径が小さくなる。しかし、もしO2の分圧は50％より大きく、空隙率の低下につながて、オリジナルの感度も低下する。この説明はベストスパッタリング混合割合は1：1である。だから、スパッタ混合ガス（O2/Ar）の比は1：1時、直流反応マグネトロンスパッタ法を採用して三酸化タングステンナノフィルムを調製するのはガスの鋭さが最高だ。

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実験を経て、マグネトロンスパッタ法で調製するの三酸化タングステンナノフィルムは二つの熱処理をして調製したWO3ナノ膜の性能をより安定する。だから熱処理の温度はWO3ナノフィルムの調製が重要な影響がある。

基片にスパッタリングのフィルムは最初に無定型の構造で、いかなるガスもない敏感ので、フィルムを熱処理が必要する。熱処理を後にフィルムは多結晶構造で、安定性が改善する。

実験を通して発見したのは熱処理の温度300℃の時に、サイズが20～70nmのWO3のナノ結晶のフィルムを生成して、更に600℃を経て熱処理は性能が良いナノフィルムを得られる。熱処理は300℃以上で時、平均の粒度と裂けサイズも増加で、感度が低下させる。だが、二つの熱処理はその現象を避けることができる。しかも、実験を通して第二の熱処理は600℃の条件で処理してフィルム粒径が大きくなったり割れの出現を発見しない。これ見ると、二つの熱処理法で調製したの三酸化タングステンフィルムは高温で調製したのフィルムの性能がより良いことである。

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