钨细泥是指黑钨矿选矿中采用重选方法难以回收的0.074mm微粒级含钨矿物的原料。现有的使用钨细泥制取仲钨酸铵(APT）的技术方法有三种，分别是经典法、碱浸-离子交换法、碱浸-萃取法。经典法处理低品位钨矿的原则流程是：碱浸→钨酸钠溶液蒸发结晶→除磷砷硅→除钼→盐酸分解→氨溶→仲钨酸铵蒸发结晶。经典法的优势在于工艺成熟、设备简单、容易投产；但是，经典法的工艺流程比较长，对原料中的杂质含量有严格要求，另外需要两道专门除杂的工艺。

一种新的以钨细泥为原料制取APT的工艺，在经典法的基础上，采用一定的工艺措施，控制合适的条件，简化除杂工艺，省去经典法中的两道专门除杂步骤。具体步骤为：碱浸→钨酸钠溶液蒸发结晶→碱液搅洗→盐酸分解→氨溶→仲钨酸铵结晶→NH₄Cl溶液搅洗。

该方法的优势如下：
1.有效解决W与杂质Mo、P、As、Si等的分离问题，不需要专门的净化工序，从而缩短工艺流程，设备投资少，降低生产成本，具有显著的经济效益；
2.钨的总冶炼回收率达90%以上，可直接制取参照WO3GB3457-82达一级品的粒度可控制的高纯仲钨酸铵；
3.生产规模不限，可大可小，对原料的适应性强；
4.设备简单，辅料来源广泛，工艺过程易于操作；
5.环境效益上，三废（废气、废水、固体废弃物的总称）排量少，且仅需简单处理就可以达到工业排放标准。

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仲钨酸铵（APT）是钨冶金工艺中一种重要的中间产物，其中的杂质含量将直接影响最终生成的钨产品的特性和质量，而钠(Na)含量的高低关系到产出的钨粉颗粒大小。钠含量高的仲钨酸铵经煅烧，生成高钠WO₃粉末，高钠WO₃粉末是制备粗颗粒钨粉的上流原材料；反之低钠仲钨酸铵最终生成细颗粒钨粉。因而，工业上要生产细颗粒的钨粉，控制仲钨酸铵中钠含量在一个较低状态的必要性，也就不言而喻了。


钠离子(Na⁺)在APT结晶溶液中的主要存在形式是仲钨酸钠，由于仲钨酸钠与仲钨酸铵在组成和结构上相似，钠可能以替代或间隙杂质离子形式或者表面化学吸附方式进入到APT晶格中。仲钨酸铵中杂质钠的来源有以下两方面：
1、生产用水
采用单级复床净化水工艺，控制纯水的平均电阻在8*10⁴Ω*cm，则水中的钠含量将非常低，不对钨产品的质量产生影响。
2、解吸剂中的氯化铵
离子交换法生产的APT中钠的含量比较大，一般达到（3~7）*10^-2%，远大于Na含量最高值0.01【根据细钨粉的金属元素分析表】，故而会对细钨粉造成影响。在此种情况下，钠含量不仅与本身浓度有较大关系，也受APT的过饱和度、成核速率、晶体长大速率、已有晶体的粒度、形态和表面以及溶液粘度等因素影响，而所列的这些因素皆受WO₃的浓度的影响。

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5、结晶时间
APT结晶时间是与结晶温度相关的因素，结晶温度高，则所需结晶时间短；反之，则结晶时间长。实验证明，杂质不仅可以在结晶过程中进入晶格，也能够在晶体与母液长时间接触中转入。也就是，结晶时间增长，会促使钠更多的进入到APT晶体中。所以，要得到高质量的细钨粉，有必要降低APT的结晶时间。
6、搅拌强度
随着APT蒸发结晶温度的升高和溶液过饱和度降低，搅拌对二次成核和扩散的影响都将减弱。其原因可能是高温状态下蒸发结晶，由于钠离子在水溶液中溶解度虽温度升高而增大，其在溶液中未达到饱和，与晶体接触的机会相对减小。尽管搅拌能有效增加接触机会，但是，这个影响不是很大。
7、结晶器壁比面积（S/V）
S/V增大，意味着结晶器壁表面的结垢增大，使得APT固相表面积加大，碰撞机会增加，促使钠进入APT晶格。故而，降低结晶器壁比面积可以降低APT中钠的含量。


APT蒸发结晶过程中，提高钨酸铵溶液中的WO₃浓度可以同时降低氯化铵用量和钠离子浓度，有利于降低APT中的钠含量；在一定范围内降低APT结晶率、提高结晶温度和缩短结晶时间、降低搅拌强度均能在不同程度上降低钠的含量。结晶器壁比面积和洗涤也是减少钠含量较为有效的办法。

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2、钨酸铵溶液起始WO₃浓度
钨酸铵溶液中，钠因过饱和而析出的产物最大可能为钨酸钠。有研究表明，当钠离子的起始浓度固定时，WO₃的浓度越高，APT中的钠含量越低。这主要是因为蒸发结晶过程中APT的过饱和度迅速消失，结晶后期APT晶体的析出完全依赖于溶液中水分的蒸发。而在一定温度下，不论结晶程度如何，结晶母液中WO₃的浓度始终维持一个较高的值。高浓度的WO₃在 相同结晶率下相对于稳定浓度的钠离子具有较大的结晶母液体积，故而，整个结晶过程将在较低Na+浓度下进行。所以，提高钨酸铵溶液起始WO₃浓度可以降低APT晶体中钠含量，进而提高钨制品的质量。
3、结晶温度
完整块状的晶体和颗粒均匀的粗晶所夹带的杂质一般比较少。APT蒸发结晶温度高，则APT晶体中的钠含量较低；反之，蒸发温度低，则APT中钠含量相对较高。这是因为，仲钨酸钠的溶解度随温度升高而增大，同时，高温容易得到粒度均匀的粗颗粒晶体，反之，低温则得到粒度不均的细颗粒APT晶体。由于APT细晶具有多种不同晶形，且表面积较大，晶体缺陷（如多孔、裂缝等）较多，这会加速钠的多相成核速率，同时促使钠进入APT晶格。故而，保持APT结晶在高温环境中进行，能有效降低晶体中钠含量。
4、洗涤
洗涤能除去吸附在APT晶体表面的Na+和残留在晶体间隙的母液，从而较大程度降低APT中钠的含量。

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在钨冶金工业中，仲钨酸铵（APT）作为重要的中间体，APT中杂质含量将影响其最终成品钨的质量。而钠的含量的高低会影响钨粉的颗粒度，高钠APT可以用于制备粗颗粒的钨粉；低钠APT则可以用于制备细颗粒钨粉。钨合金中最主要的原料是钨粉，其粒度的大小对钨合金的性能起到关键性作用。含细颗粒钨粉的合金性能明显高于含粗颗粒钨粉的合金。如果，钨粉颗粒为超细颗粒，那么合金性能可以得到一个质的飞跃，达到高强度与高硬度两者相统一的效果，从而扩展钨合金的应用领域。


工业上为得到细颗粒钨粉，尽量减少其上游产品仲钨酸铵中钠的含量是一种行之有效的方式。文章将从钨酸铵溶液起始WO₃浓度、APT结晶率、结晶温度、结晶时间、搅拌强度等7个方面对钠析出的影响，分析APT蒸发结晶过程中如何降低APT中钠的含量。
1、APT结晶率
APT蒸发结晶初期，由于溶液中APT过饱和度大，晶核生成和晶体成长的速度都很快，产生颗粒小的APT晶粒，此时，杂质钠容易进入到晶体内部。随着蒸发结晶的进行，溶液过饱和度迅速下降，含钠高且表面积大的APT小晶体容易溶解，而含钠少的大晶体则持续长大，使得APT中钠的含量总体呈下降趋势。而后随着母液的浓缩，Na⁺浓度不断提高，APT与Na⁺接触面积增大，APT中钠又呈上升趋势，如此循环。

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众所周知，金刚石是目前人类所发现的物质中硬度最高的物质，其密度3470-3560kg/m³，莫氏硬度为10，熔点高达3550℃-4000℃。金刚石的化学性质稳定，耐磨性优良，但是却难以直接加工成所需的产品或零件，而气相沉积法制备的金刚石涂层就能较好地解决这一矛盾，被广泛运用于一些金属线材生产所需模具的涂层。金刚石涂层主要是利用低压化学气相沉积法（Low Pressure Chemical Vapor Deposition， LPCVD）在硬质合金基体上沉积一层多晶组成的金刚石膜体，从而改善硬质合金的硬度以及耐磨性等性能。

以金属线材的消耗品拉拔模具为例，目前线材行业中使用的主要模具包括硬质合金模具（Tungsten Carbide， TC）以及聚晶金刚石模具（Polycrystalline Diamond， PCD）两种，而金属线材的质量、生产效率以及综合性能都极大地取决于拉拔模具的性能。硬质合金模具硬度和韧性优良，制作成本较聚晶金刚石低，但是在工作中易发生粘料，使用寿命较聚晶金刚石短；而聚晶金刚石硬度高，耐磨性极好，但是模具制作成本较高，制作较大尺寸的模具或异形模具都相当困难，可塑性及韧性也相对较差。因此，利用LPCVD金刚石涂层技术制成金刚石涂层硬质合金拉拔模具，既综合了金刚石与硬质合金二者的优点，又克服了相应的缺陷，是新型拉拔模具中适用范围最广的一种。以下是拉拔模具工作示意图：

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传统的污水处理方法如吸附法、混凝法、活性污泥法等，其效率低、成本高、存在二次污染等问题。在全球能源短缺、环境污染问题日益严峻的大背景下，高效利用洁净、无二次污染的太阳能的光催化技术是众多处理污染物方法的首选。以三氧化钨为和纳米材料为基体，制备的纳米银三氧化钨常用于光催化降解有机污染物和光解水等反应。这种方法属无机光催化剂制备工艺技术领域，与其他方法相比其催化效率可大幅提高，并且这种工艺具有简单、环境友好等优点。

实验方法
以三氧化钨和纳米片为基体，通过紫外光还原法，将纳米银均匀负载于三氧化钨纳米片上，然后在湿润状态下加以一定温度下的焙烧，得到新型光催化剂纳米银负载三氧化钨，从而达到提高氧化钨光催化活性的目的。利用氮气（N₂）吸附-脱附、X射线衍射(XRD)、透射电子显微镜(TEM)、漫反射吸收光谱(DRS)和光电流测试等手段对样品进行表征。

结果表明
三氧化钨负载纳米银的光催化剂具有完整的晶型和规则的孔道结构，有利于光生电子和空穴的分离。同时，作为固态电子受体与传输体的纳米银三氧化钨促进了光生电子-空穴对的传输和分离，有效提高了可见光催化性能。掺杂2%(质量分数)纳米银三氧化钨的复合光催化剂性能最佳，4h可将4-CP降解96%以上，催化剂经多次循环使用后，其光催化活性基本保持不变。

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