仲钨酸铵制备钨酸铯纳米粉末
- 分类：钨业知识
- 发布于 2016年1月19日
- 点击数：892
钨酸铯纳米粉末已被广泛应用于薄膜透明隔热领域，如EVA薄膜、光学滤光片等。同时也被用于激光打标、激光焊接、 近红外光热诊疗药物。
钨酸铯在光的不同波段具有独特的性质，如下：
1.在波长800-1100nm的近红外区域具有极强的吸收特性；
2.在波长为380-780nm的可见光区域具有较强透过特性；
3.在波长为200-380nm的紫外光区域则具有较强屏蔽特性。
为降低制备成本，简化制备过程，提高生产效率，降低产品的团聚程度，从而使得钨酸铯纳米粉末能被更广泛的应用开来。有研究创新性的提出一种以仲钨酸铵、碳酸铯、甲醇为原料，制备钨酸铯纳米粉末的方法。
具体步骤如下：
1.将仲钨酸铵、碳酸铯溶解于甲醇溶液中，干燥得到粉粒；
2.将步骤1得到的粉粒进一步粉碎，得到钨、铯混合粉末；
3.将钨、铯混合粉末置于带有搅拌的密闭反应釜中，加入山梨醇，于350°C下搅拌反应2〜8小时；
4.将步骤3产生的反应产物分离出来，使用乙醇进行洗涤，然后烘干，再采用气流粉碎机进行粉碎，得到钨酸铯纳米粉末。
备注：气流粉碎机的粉碎室气包的气压为0.6MPa~l.IMPa，气流粉碎机分级器转速设定为1000转/分。
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钨酸钠和盐酸二氧丙嗪体系的影响因素
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- 发布于 2016年1月19日
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仲钨酸铵制备钛钨氧化物包覆碳纳米管载铂电催化剂
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- 发布于 2016年1月19日
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钛钨氧化物包覆碳纳米管载铂电催化剂属于燃料电池的技术领域。燃料电池（Fuel Cell）是一种将存在于燃料与氧化剂中的化学能直接转化为电能的发电装置。这种催化剂具有以下优势：
一、碳纳米管均匀包覆与高度结晶的钛钨氧化物中，构建电子互传通道，从而增强导电性，进而有效避免载体的腐蚀和抑制催化剂流失，极大的提高催化剂的活性、稳定性和钼利用率；
二、钛钨氧化物包覆层加速分解氧还原的中间产物过氧化氢（H2O2），降低H2O2的产率，减小H2O2对催化剂和电解质膜的影响，使得燃料电池系统的使用寿命得以延长。
试剂称取：按照一定质量比例称取纯化碳纳米管、钛酸丁酯和仲钨酸铵，无水乙醇、氨水、过氧化氢溶液则按照一定体积比量取。
步骤：
1.将纯化碳纳米管分散在无水乙醇中；
2.缓慢加入钛酸丁酯，超声搅拌20~60分钟，获得碳纳米管钛酸丁酯分散液；
3.将仲钨酸铵溶解在氨水中，再缓慢加入H2O2溶液，超声振荡5~20分钟，得到仲钨酸铵溶液；
4.再将仲钨酸铵溶液缓慢滴加到碳纳米管钛酸丁酯分散液中，搅拌反应36~72h，烘干、研磨，获得非晶钛钨氧化物包覆碳纳米管；
5.将步骤4得到的反应物在氮气或氩气下450~650°C焙烧2~6h，冷却至室温，水洗、醇洗各两次，烘干、研磨。获得钛钨氧化物包覆碳纳米管。
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钨酸钠和盐酸二氧丙嗪体系的光谱特征
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- 发布于 2016年1月19日
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光散射现象广泛存在于光与粒子的作用过程中，是指一束光通过介质时在入射光方向以外的各个方向上所观察到的一种光辐射现象。在自然界中光散射现象普遍存在。共振光散射技术使用的共振光散射探针主要是有机试剂，用无机离子作探针的报道较少。本文基于在磷酸介质中，质子化的盐酸二氧丙嗪能与缩聚的钨酸根形成离子缔合物，导致体系共振光散射强度增强，且增强强度与盐酸二氧丙嗪的浓度在一定范围内呈正比，建立一种测定盐酸二氧丙嗪的新方法，并用于药物中盐酸二氧丙嗪的测定。| 钨酸钠供应商：中钨在线科技有限公司 | 产品详情： http://www.sodium-tungstate.com |
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CVD金刚石涂层硬质合金刀具预处理技术——等离子蚀刻
- 分类：钨业知识
- 发布于 2016年1月19日
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等离子体蚀刻（plasma etching）可应用于大部分基材，对于其他一些复杂的几何结构体还可以通过等离子体清洗、等离子体活化、等离子体镀膜等处理方法。等离子体蚀刻法运用于CVD金刚石涂层硬质合金刀具时，主要是其可以兼具除钴Co和脱碳C两个方面。其原理是利用氢气（H2）、氧气-氢气（O2-H2）、H2O-H2、一氧化碳-氢气（CO-H2）、氩气-氢气（Ar-H2）等气体中的H、O、Ar原子或离子以及CO等与硬质合金基体中的碳化钨（WC）和粘结相钴（Co）发生反应从而生成易挥发的二氧化碳CO2、甲烷CH4（气态）、Co（CO）4、Co（OH）4等化合物或钴的氢氧化物，使得硬质合金表层形成一定厚度的纯钨层，之后在金刚石沉积的初期该层被再次碳化，产生化学键并形成新的碳化钨WC颗粒。
这样一来，在金刚石沉积的前期，CVD金刚石涂层与硬质合金刀具基体间形成了碳化钨WC中间过渡层。其不但可以有效地减少薄膜中所存在的残余应力，而且又能在一定程度上阻挡金刚石生长过程中基体深层的钴向表面重扩散，并且使金刚石晶体嵌入到WC晶界之中，从而使金刚石薄膜和硬质合金基体间的接触面积得到提高，产生“钉扎效应”，有效地提高了膜层与膜层间，膜层与基体间的附着力。等离子蚀刻是干法蚀刻中最为常见的一种形式，其原理是暴露在电子区域的气体形成等离子体，由此产生的电力气体和释放高能电子组成的气体，从而形成了等离子或离子，电力气体原子通过电场加速时，会释放足够的力量与表面驱逐力仅仅粘合材料或蚀刻表面。此外，等离子体蚀刻还可细分为反应性等离子体（RIE）、顺流等离子体（Downstream）、直接等离子体（Direct plasma）。
有相关研究人员利用不同的等离子体蚀刻硬质合金基体，都能沉积得到具备较好附着力的金刚石薄膜。但是还有另一种观点认为，虽然单纯的氢等离子体脱碳处理能够在一定程度上增强金刚石膜层的附着力，但是其也存在一些不可避免的问题。其一是在碳化钨WC脱碳的同时，钴Co在真空中蒸发而留下一定数量的孔洞，这就使得硬质合金基体硬度下降，从而影响了刀具的切削加工；而另一方面，这种处理并能完全消除钴的有害影响。这是由于钴Co作为粘结相可以很好地润湿碳化钨WC基体表面，在金刚石膜生长过程中，硬质合金刀具表层因钴Co的蒸发而产生孔洞，中心部位的钴就会通过润湿表层碳化钨晶粒的侧面，进而扩散到金刚石膜/硬质合金基体界面。
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