三氧化鎢是一種η型寬禁帶半導體氧化物(禁帶寬度約2.4~2.8eV)，在低溫、室溫時WO₃以單斜相和三斜相形式存在；而在高溫時會出現正交相和四方相。其理想晶體結構可看作由6個O原子圍繞中心W原子而組成鎢-氧八面體[WO6]，它們經過共頂點連接而成，八面體之間存在著許多空隙，而形成各種通道，這些通道作為離子的流通管道和嵌入位置，是H+、Li+等離子的良好注入體。因此三氧化鎢憑藉其回應速度快、著色效率高、著色/消色對比度高等優異性能，作為最經典的無機變色材料，廣泛用於電致變色器件、光致變色器件和智慧顯示等領域。

 

文章介紹一種納米WO₃電致變色薄膜的製備方法，其製備如下：

1. 在反應容器中加入配製好的溶液，將鎢源靶材置於溶液中，並保證溶液浸過靶材表面，採用磁力攪拌器均勻攪拌溶液，其中鎢源靶材為純度大於99.9%高純金屬鎢靶或三氧化鎢陶瓷靶材；

2. 調節雷射器的脈衝鐳射光束的光路，使鐳射光束聚焦在溶劑液面以下的靶材，選取適當的鐳射波長、頻率及能量，開啟脈衝鐳射，在液體環境中對鎢源靶材進行燒蝕1~2小時； 

3. 脈衝鐳射燒蝕反應結束後，關閉脈衝鐳射，獲得含三氧化鎢納米顆粒的膠體溶液，並在室溫陳化1~4小時，使鐳射燒蝕產物與溶液進一步反應；

4. 調整陳化後溶液的pH值，並在溶液中放入透明導電玻璃作為電極，對陳化後的鐳射產物在酸性條件下進行電泳沉積5~60分鐘，從而製備出納米三氧化鎢薄膜。