断熱防爆コーティングを準備するための三酸化タングステン、またはWO3は、室温でEg = 2.5-2.8eVの範囲で、広く調整可能なバンドギャップを持つ遷移金属酸化物半導体です。専門家によると、最近、エネルギー効率の高い建物、フラットパネルディスプレイ、光学メモリ、書き込み/読み取り/消去デバイスのいわゆるスマートウィンドウでのアプリケーションに、三酸化タングステンナノ粒子に関心が寄せられました。そして、三酸化タングステン断熱コーティングは、エネルギー効率の高い建物のための省エネ材料です。

단열 방폭 코팅을 제조하기위한 삼산화 텅스텐 또는 WO3는 실온에서 Eg = 2.5-2.8eV 범위에서 광범위하게 조절 가능한 밴드 갭을 갖는 전이 금속 산화물 반도체이다. 전문가들에 따르면, 최근 에너지 효율이 높은 건물, 평면 디스플레이, 광학 메모리 및 필기 판독 소거 장치를위한 소위 스마트 윈도우에 응용하기위한 삼산화 텅스텐 나노 입자에 대한 관심이 제기되었다. 그리고 삼산화 텅스텐 단열 코팅은 에너지 효율적인 건물을위한 에너지 절약 재료입니다.

나노 단열 필름을 제조하기위한 삼산화 텅스텐은 연구 관심을 얻은 새로운 유형의 근적외선 흡수 재료입니다. 근적외선 (NIR) 조사는 780-2,500 nm 범위의 넓은 파장을가집니다.

ナノ断熱フィルムを調製するための三酸化タングステンは、研究の関心を集めた新しいタイプの近赤外線吸収材料です。ご存知のように、近赤外（NIR）照射は780-2,500 nmの範囲の広い波長を持っています。