有专家对钽掺杂氧化钨电致变色薄膜的表面形貌进行观察，发现其SEM图如下图所示，其中，（a）、（b）、（c）、（d）、（e）、（f）、（g）分别为未掺杂Ta、掺杂5%Ta、掺杂10%Ta、掺杂15%Ta、掺杂25%Ta以及掺杂35%Ta的WO3薄膜。

Ta掺杂氧化钨电致变色薄膜中，Ta掺杂量的多少会影响三氧化钨薄膜光谱调制能力的好坏。氧化钨薄膜的光学调制幅度ΔT为着色态与退色态透射率的差值。

相对于三氧化钨薄膜，钽掺杂WO3薄膜的着色效率有所提高，即薄膜的电致变色性能改善了，其中，钽掺杂量的临界值为15%，过度的掺杂则不利于薄膜呈现出高的电致变色效率。

薄膜的循环寿命是电致变色材料应用的一个重要参数，也是评价其性能好坏的重要标准之一。因而，有专家采用循环伏安法对Ta掺杂WO3薄膜的循环寿命进行测试，即在薄膜样品上反复施加-0.6～+0.6V的电压，使薄膜循环着退色多次，观察样品在50次循环后的循环伏安曲线的稳定性。未掺杂和掺杂15%钽的氧化钨薄膜的循环伏安曲线如下图所示。

Ta掺杂氧化钨薄膜的电致变色性能是怎样的情况？有专家通过下列实验获知。

专家表示，室温下沉积获得的纯三氧化钨薄膜为非晶态电致变色薄膜，薄膜表面光滑，质地均匀且多孔。而钽掺杂纳米三氧化钨电致变色薄膜也是非晶结构。当钽掺杂量在一定范围内时，薄膜表面光滑均匀。随着钽掺杂量的增加，开始有较大的颗粒镶嵌在薄膜内部，这些颗粒较为致密，破坏了薄膜的多孔性和均匀性。当掺杂量达到35%时，在薄膜表面甚至出现了微米级别的颗粒。

掺Ta三氧化钨就是将Ta2O5与WO3相复合，可以结合两种材料的优势，实现更高的机械和化学相容性，从而提高器件的稳定性和寿命，也就是说，以此复合材料制备得到的电致变色薄膜的性能将得到改善。

钽掺杂氧化钨可以用于制备电致变色薄膜，而钽掺杂的氧化钨电致变色薄膜可以采用磁控溅射方法制备得到，以改善氧化钨电致变色薄膜的电化学循环稳定性。

结晶态三氧化钨膜可以通过磁控溅射沉积再通过热处理获得。通过磁控溅射沉积获得的是非晶态三氧化钨膜，在空气中分别加热200℃，250℃，300℃，350℃及400℃，并保温30min进行热处理。随着热处理温度的提高，非晶态三氧化钨膜的电致变色性能下降。当热处理温度高于350℃时，非晶态转变成结晶态。

三氧化钨可以用于制备电致变色薄膜，最终以电致变色玻璃即智能窗的形式应用到建筑玻璃上，起到节能降温的作用。