碳化钨(WC)是生产 硬质合金的重要原料。碳化钨的制备技术多种多样，其中以钨粉为原料制备碳化钨粉是目前应用最为广泛的方法。

TFT薄膜具有高响应度、高亮度、高对比度的优点，是众多行业基本材料之一，因此被广泛应用于太阳能电池、液晶显示器和等离子显示器领域，近年来，伴随着高档显示器的快速发展，钨钼合金旋转靶材成为制备TFT薄膜的重要材料。

物理气相沉积（PVD，PhysicalVaporDeposition）被广泛地应用在光学、 电子、信息等高端产业中，例如：集成电路、液晶显示器（LCD，LiquidCrystal Display）、工业玻璃、照相机镜头、信息存储、船舶、化工等。PVD中使用的合金靶材则是集成电路、液晶显示器等制造过程中最重要的原材料之一。

苏打高压浸出法和苏打烧结-水浸法是工业上从含钨物料中浸出钨的两种成熟方法。上述两种浸出方法获得的浸出液为钨酸钠和碳酸钠的混合溶液，其中通常还含有少量的P，As，Si等杂质，这种溶液即为含钨物料苏打浸出液。