CVD法制氧化钨异质结
- 分类:钨业知识
- 发布于 2018年3月06日
- 点击数:1199
制备氧化钨异质结最常用的方法就是化学气相沉积法(CVD)。CVD 法的基本原理是在氧化钨基底上生长一种二维晶体,然后在此基础上生长不同的二维材料,从而形成二维异质结构。其主要的操作流程是将反应物以气体的形式通入反应容器中,之后发生化学反应后以固体的形式沉积在基底上。
制备氧化钨异质结最常用的方法就是化学气相沉积法(CVD)。CVD 法的基本原理是在氧化钨基底上生长一种二维晶体,然后在此基础上生长不同的二维材料,从而形成二维异质结构。其主要的操作流程是将反应物以气体的形式通入反应容器中,之后发生化学反应后以固体的形式沉积在基底上。