三氧化钨用量对氧化环已酮的影响
- 分类：钨业知识
- 发布于 2015年6月10日
- 点击数：1680
三氧化钨在现代工业中被广泛应用，除了在气敏材料、电致变色等领域发展外在催化方面的应用也十分广泛。且三氧化钨既不溶于水也不溶于酸，但在过量的H2O2的溶液中，由于[o2]2-强的电负性和WO3发生配位作用生成氧化钨酸（H2[W2O3(O2)4(H2O)2]）{11-12}。在（H2[W2O3(O2)4(H2O)2]）{11-12}的作用下将环乙醇转化为环已酮。该反应体系中的H2[W2O3(O2)4(H2O)2]为活性组分，带来活性氧的同时又为反应体系带来酸性，适宜的酸性对H2O2的氧化反应有较强的催化作用。当三氧化钨用量为0.50mmol时，溶液的酸性较低，活性中心数目较少，环已酮的产率很低。随着三氧化钨的用量增加，溶液的酸性增强，活性中心数目也相应增加，产品产率也相应增高。当三氧化钨用量增至1mmol时，已能够提供反应所需的活性中心数，环已酮的产率达到73.5%，且随着三氧化钨用量的增加，环已酮的产率并无明显提高。说明无限量的增加催化剂用量，并不能提高环已酮的产率。
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三氧化钨薄膜透光性（3）
- 分类：钨业知识
- 发布于 2015年6月10日
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采用XRD-600衍射仪进行对不同方法制备的薄膜的结构形态分析。不同温度下退火处理得到的三氧化钨薄膜样品的形态不同。
通过比较溶胶-凝胶法和磁控溅射法制得的三氧化钨薄膜在退火前透光率相似,在300℃以上退火处理后薄膜样品的透光率下降,且退火温度越高,透光率越低。在350℃以下退火处理得到的三氧化钨薄膜样品为非晶态,350~400℃范围内退火时,薄膜样品逐渐完成非晶态到晶态的转变,在400℃以上退火处理后,衬底也产生了晶体衍射峰。三氧化钨薄膜的结构形态和光学性质对其气敏性能有很大的影响,例如非晶态结构薄膜相对疏松多孔,利于吸附气体,对氢气的灵敏度可能高于晶态结构的薄膜,所以该研究结果对研究氢敏性能有一定的指导作用。
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三氧化钨薄膜的透光性（2）
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- 发布于 2015年6月10日
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通过比较磁控溅射法和溶胶凝胶法制备的三氧化钨发现它们的透光率差异不大。但是磁控溅射光谱的波峰波谷更明显,即磁控溅射法制备的薄膜对于不同波长光的吸收差异大于溶胶-凝胶法制备的三氧化钨薄膜。
溶胶-凝胶法在退火前后不同温度下的透射谱的分析。对于溶胶-凝胶法制备的三氧化钨薄膜,退火温度越高,薄膜的透光率越低。在300℃下退火30min后，薄膜透光率平均下降10%,波峰波谷的波长位置有向紫外波段移动的现象,但是不明显。在380℃下退火后薄膜的透光率降低了20%~25%,且在偏红外部分的透光率下降特别明显,波峰数没有变化,波峰波谷处透光率差值变得更小。在400℃下退火后薄膜透光率下降25%~30%,且在偏红外部分的透光率下降特别明显。
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三氧化钨薄膜的透光性（1）
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WGZ-8双光束紫外-可见分光光度计进行薄膜的透光性分析,入射光波长范围为200~800nm,透光率为0%~150%。运用溶胶-凝胶法制备的三氧化钨薄膜的透射光谱显现出最大透光率和相应波长分别为:85.3%,556nm,波峰和波谷在350~600nm波长范围内,波峰波谷处的透光率差值为4.4%,在小于300nm的波长范围内透光率几乎全部为零。而运用磁控溅射法制备三氧化钨的透射光谱其中最大透光率和相应波长范围分别为:90.1%,572~582nm,波峰波谷在350~650nm波长内,波峰波谷处透光率差值约为21.2%。比较两条谱线可以看出两种方法制备的三氧化钨薄膜的透光率差异不大。
磁控溅射法制备的薄膜当温度在450℃时,薄膜的透光率平均下降约8%~10%,峰形和峰位几乎没有变化。当退火温度在500℃时,薄膜的透光率平均下降约8%,峰位和峰形没有多大变化。
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硬质合金双刃镗刀分类
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- 发布于 2015年6月10日
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硬质合金双刃镗刀是一种镗削刀具，可用于镗床，车床，铣床上的内孔加工，扩孔等。它的刀刃与刀杆之间的角度为90度，在中心两侧分布有可同时切削刀齿。此设计可有效增大切削量并保证切削时的径向力互相平衡。
硬 质合金双刃镗刀刀柄可根据装夹方式分为圆柄和方杆，莫氏锥度和7/24锥柄等多种形式。其次根据其上下浮动情况，硬质合金双刃镗刀可分为浮动镗刀和定装镗 刀。浮动镗刀适用于孔的精加工。它实际上相当于铰刀，能镗削出尺寸精度高和表面光洁的孔，但不能修正孔的直线性偏差。为了提高重磨次数，浮动镗刀常制成可 调结构。
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