鎢觸點的主要成分是鎢（W），即鎢觸點表面的膜的電極電位分析可從鎢下手。
標準電極電位是平衡電極電位的一種，每一種物質都擁有這一特性。
標準電極電位指的是將某種物質放入含有其離子的溶液中，如果溶液中離子濃度為1g/L，則該物質與標準氫電極之間的電位差就是標準電極電位。標準電極電位的負值越大，則金屬越活潑；若正值越大，則金屬越不活潑。

在25℃時，幾種金屬的標準電極電位如下表所示

由上表可知，W和Cu的電極電位差為0.54V，在高溫、高濕環境下，容易產生電化腐蝕。而W與Ni的電化腐蝕現象較W與Cu、W與Ag的輕微，因為W與Ni的電極電位差只有0.03V，不容易發生電化學腐蝕。所以，可以往鎢觸點中添加適量的Ni，以提高它的抗氧化能力，即降低其表面膜的形成的可能性。



 

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以下為稀土摻雜鎢酸鈣Zn_0.1Ca_0.9WO₄：Ho³⁺/Yb³⁺多晶上轉換發光機理的分析。

根據Zn_0.1Ca_0.9WO₄：Ho³⁺/Yb³⁺多晶的上轉換穩態發射光譜和功率曲線分析，結合Ho³⁺離子的能級分佈圖，提出了Zn_0.1Ca_0.9WO₄：Ho³⁺/Yb³⁺多晶的上轉換綠光和紅光發光機理，具體機理如圖6所示。

由Zn0.1Ca0.9WO4：Ho3+/Yb3+多晶的上轉換功率曲線可知，上轉換綠光和紅光的發光過程均為兩光子能量傳遞過程。Zn_0.1Ca_0.9WO₄：Ho³⁺/Yb³⁺多晶上轉換綠光激發機理如下：首先 Yb³⁺離子受到980nm雷射器的激發，發生能級躍遷²F_7/2→²F_5/2，處於激發態能級的Yb3+離子不斷將能量傳遞給Ho³⁺離子，使Ho³⁺離子由基

態能級⁵I₈躍遷到⁵I₆能級。然後處於激發態能級的Yb³⁺離子再次將能量傳遞給Ho³⁺離子，使Ho³⁺離子由⁵I₆能級躍遷至⁵S₂,⁵F₄能級。最後Ho³⁺離子由⁵S₂,⁵F₄能級向基態能級⁵I₈躍遷，輻射出545nm左右的上轉換綠光。 

上轉換紅光發射存在無輻射弛豫過程，可能存在兩種機制。第一種機制：當Ho³⁺離子吸收能量被激發到5I6能級後，通過無輻射弛豫躍遷到⁵I₇能級，處於⁵I₇能級的Ho³⁺離子再次吸收Yb³⁺離子傳遞的能量躍遷至⁵F₅能級。第二種機制：與綠光激發原理相似，當Ho³⁺離子與Yb³⁺離子通過兩次能量傳遞處於⁵S₂,⁵F₄能級後，無輻射弛豫到⁵F₅能級。最後處於5F5能級的Ho³⁺離子都向基態能級⁵I₈躍遷，發射出659nm左右的上轉換紅光。

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鎢觸點表面上的膜的出現是因為：在使用過程中，尤其是已經將其放置在高溫、高濕條件下很長時間後再使用時，其表面生成一層黃褐色的氧化物膜，經過化學分析其成分，該層硬膜為WO₃（不導電），這層硬膜的電阻很高，會導致觸點接觸不良或不能導通，從而使得設備出現故障。

金屬在被氧化或腐蝕後，倘若金屬的體積小於氧化物的體積，則金屬表面可能會形成緻密的、完整的氧化物-膜；倘若金屬的體積大於氧化物的體積時，則金屬表面形成的氧化膜是疏鬆的、多孔的不完整的膜。
關係運算式如下：
V_OX=M_OX/D_OX
V=X*M_w/D_w
則：
V_OX / V= M_OX* D_w/ D_OX* X*M_w＜1時，氧化物膜是不完整的；
V_OX / V= M_OX* D_w/ D_OX* X*M_w＞1時，金屬氧化物膜可能是完整的、緻密的；
由相關文獻可知，WO₃的V_OX / V 的值為3.59＞1，所以，鎢觸點表面上的膜是緻密的、完整的
排故方法：滴幾滴酒精在鎢觸點表面上，則該層硬膜會剝落。

其中，
V_OX表示氧化物的體積
M_OX表示氧化物的分子量
D_OX表示氧化物的密度
V表示生成單氧化物分子的金屬體積
X 表示在單氧化物分子中金屬原子的數量
M_w表示金屬的原子量
D_w表示金屬的密度



 

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核能是一種新型再生能源，為應對現代社會的能源危機有著舉足輕重的作用。核能利用裂變反應過程釋放大量的能量，但同時產生的質子、中子、電子卻具有一定的危害性。因為原子核在裂變時釋放出不同的粒子，所以被稱之為核輻射。核輻射會對人體組織、器官造成傷害。

鎢屏蔽材料由於其高密度，高輻射屏蔽能力及環保性，常被用於製造核研究所用核反應爐或迴旋加速器研究的放射性屏蔽材料，鎢合金材料在研究中可用作准直儀(一種指導或聚焦放射線的儀器)或者用來盛放放射性同位素.鎢合金是屏蔽X以及伽馬射線的最佳材料。由於鎢合金材料的高密度性，相同體積的鎢比鉛重鉛重60%，使用鎢屏蔽可減小屏蔽部分的物理尺寸而不影響屏蔽的有效性。

下圖為核研究用鎢屏蔽：

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